[发明专利]微转印方法有效
申请号: | 201710370030.5 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN107154374B | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 陈黎暄 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/683;H01L33/00 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供一种微转印方法,利用传送头的拾取凸起吸附载体基板上的微部件后,将传送头与载体基板上下翻转,使所述传送头位于载体基板的下方;然后将传送头与载体基板分离,使传送头承载着被拾取凸起吸附的微部件;然后将承载有微部件的传送头转移到接受基板的上方,再将传送头上下翻转,将拾取凸起吸附的微部件置于接受基板上;本发明的微转印方法,在传送头转移微部件的过程中,微部件承载于传送头上,相对于现有技术,传送头对微部件的吸附不再需要克服重力的影响,继而在保证传送头对微部件稳定转移的情况下,可以对传送头进行快速移动,有效提高了传送头的转移良率和速率。 | ||
搜索关键词: | 传送头 微部件 载体基板 基板 拾取 凸起 吸附 转印 承载 传送 快速移动 上下翻转 吸附载体 翻转 良率 保证 | ||
【主权项】:
1.一种微转印方法,包括如下步骤:步骤S1、提供传送头(50)、及载体基板(10),所述传送头(50)具有数个拾取凸起(51),每一拾取凸起(51)均具有吸附面(511),所述载体基板(10)上设有数个微部件(40),将所述传送头(50)放置于所述载体基板(10)上,此时所述拾取凸起(51)的吸附面(511)朝向下方,使得所述拾取凸起(51)的吸附面(511)与载体基板(10)上的微部件(40)相接触,即利用所述传送头(50)的拾取凸起(51)吸附载体基板(10)上的微部件(40);其特征在于,包括如下步骤:步骤S2、将传送头(50)与载体基板(10)上下翻转,此时所述传送头(50)位于所述载体基板(10)的下方,所述拾取凸起(51)的吸附面(511)朝向上方,然后将传送头(50)与载体基板(10)分离,此时所述传送头(50)承载着所述步骤S1中被拾取凸起(51)吸附的微部件(40);步骤S3、提供接受基板(20),将承载有微部件(40)的传送头(50)转移到所述接受基板(20)的上方,然后将传送头(50)上下翻转,此时所述传送头(50)位于所述接受基板(20)的上方,所述拾取凸起(51)的吸附面(511)朝向下方,将拾取凸起(51)吸附的微部件(40)置于接受基板(20)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710370030.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造