[发明专利]溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法在审
| 申请号： | 201710372058.2 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN107435135A | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 崔丞镐;柳海永;李康熙 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人： | 康泉,宋志强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射装置及使用该溅射装置的溅射方法。溅射装置包括基板支架、第一对置靶单元、第二对置靶单元和电源单元。第一对置靶单元包括第一靶和至少一个第一磁性部，并操作来在邻近第一靶的第一等离子体区域中形成磁场。第二对置靶单元包括第二靶和至少一个第二磁性部，并操作来在邻近第二靶的第二等离子体区域中形成磁场。电源单元将第一电力电压提供到第一靶和第二靶。控制阳极在第二方向上面对基板支架，在第一对置靶单元与第二对置靶单元之间具有第一等离子体区域和第二等离子体区域，控制阳极接收大于第一电力电压的控制电压。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射装置，包括：基板支架；第一对置靶单元，包括第一靶和至少一个第一磁性部，以在邻近所述第一靶的第一等离子体区域中形成磁场；第二对置靶单元，包括第二靶和至少一个第二磁性部，以在邻近所述第二靶的第二等离子体区域中形成磁场，所述第二对置靶单元在第一方向上与所述第一对置靶单元分离，在所述第一对置靶单元与所述第二对置靶单元之间具有所述第一等离子体区域和所述第二等离子体区域；电源单元，用于将第一电力电压供给到所述第一靶和所述第二靶；以及控制阳极，在与所述第一方向相交的第二方向上面对所述基板支架，在所述控制阳极与所述基板支架之间具有所述第一等离子体区域和所述第二等离子体区域，并且所述控制阳极接收大于所述第一电力电压的控制电压。
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