[发明专利]一种X射线荧光分析装置及其分析检测方法有效
| 申请号： | 201710374634.7 | 申请日： | 2017-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN106996941B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 孙学鹏;孙天希;刘志国;尚宏忠;张丰收 | 申请（专利权）人： | 北京市辐射中心;北京师范大学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 刘小静 |
| 地址： | 100875 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及荧光分析设备技术领域，具体涉及一种X射线荧光分析装置及其分析检测方法，包括X光源，用于发射X射线；调控装置，用于聚焦X射线形成焦斑；准直器，设置在X光源和调控装置之间；样品架，用于放置待测样品，并将待测样品设置在焦斑处；荧光探测装置，用于接收待测样品与X射线产生的二次荧光信号。本发明通过X光管发出X射线经过椭球型单毛细管X光透镜会聚成锥形激发射线，焦斑为锥形激发射线顶点，可以利用此高强度微焦斑对样品进行微区全反射X射线荧光光谱分析，在特定领域具有重要的潜在应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 荧光 分析 装置 及其 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线荧光分析装置，其特征在于，包括X光源，用于发射X射线；调控装置，用于聚焦X射线形成焦斑；准直器，设置在X光源和调控装置之间；样品架，用于放置待测样品，并将待测样品设置在焦斑处；荧光探测装置，用于接收待测样品与X射线产生的二次荧光信号。
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