[发明专利]基板清洗方法、基板清洗系统以及存储介质

摘要

提供一种基板清洗方法、基板清洗系统以及存储介质。不会对由与水发生反应而发生溶解或腐蚀的材料形成的基板的表面产生影响地将附着于基板的异物去除。实施方式所涉及的基板清洗方法包括以下工序：成膜处理液供给工序，向基板供给含有挥发成分且用于在基板上形成膜的成膜处理液；剥离处理液供给工序，对成膜处理液因挥发成分挥发而在基板上发生固化或硬化所形成的处理膜供给使处理膜从基板剥离的剥离处理液；以及溶解处理液供给工序，在剥离处理液供给工序之后，对处理膜供给使处理膜溶解的溶解处理液。在此，成膜处理液含有极性有机物，剥离处理液是不含水分的非极性溶剂，溶解处理液是不含水分的极性溶剂。

主权项

一种基板清洗方法，其特征在于，包括以下工序：成膜处理液供给工序，向基板供给成膜处理液，该成膜处理液包含挥发成分且含有用于在所述基板上形成膜的极性有机物；剥离处理液供给工序，对所述成膜处理液因所述挥发成分挥发而在所述基板上发生固化或硬化所形成的处理膜供给使该处理膜从所述基板剥离的剥离处理液；以及溶解处理液供给工序，在所述剥离处理液供给工序之后，对所述处理膜供给使该处理膜溶解的溶解处理液，其中，在所述剥离处理液供给工序中使用的剥离处理液是不含水分的非极性溶剂，在所述溶解处理液供给工序中使用的溶解处理液是不含水分的极性溶剂。