[发明专利]垂直非易失性存储器装置有效
| 申请号： | 201710378747.4 | 申请日： | 2017-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN108933139B | 公开（公告）日： | 2023-10-17 |
| 发明（设计）人： | 崔钟允 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H10B20/00 | 分类号： | H10B20/00;H10B41/20;H10B43/20 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;田野 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种垂直非易失性存储器装置，所述垂直非易失性存储器装置包括：基底，包括单元阵列区和接触区；第一堆叠结构和第二堆叠结构，在基底上沿第一方向彼此间隔开，第一堆叠结构和第二堆叠结构中的每个包括顺序地堆叠在基底上的第一导电线、第二导电线和第三导电线；第一阵列线，位于基底的接触区上，并将第一堆叠结构和第二堆叠结构中的每个的第一导电线和第二导电线电连接；以及第二阵列线，位于基底的接触区上，并将第一堆叠结构的第三导电线电连接到第二堆叠结构的第三导电线。第一阵列线和第二阵列线位于距基底的顶表面同一高度处。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 非易失性存储器 装置 | ||
【主权项】：
1.一种垂直非易失性存储器装置，所述垂直非易失性存储器装置包括：基底，包括单元阵列区和接触区；第一堆叠结构和第二堆叠结构，在基底上沿第一方向彼此间隔开，第一堆叠结构和第二堆叠结构中的每个堆叠结构包括顺序地堆叠在基底上的第一导电线、第二导电线和第三导电线；第一阵列线，位于基底的接触区上，并将第一堆叠结构和第二堆叠结构中的每个堆叠结构的第一导电线和第二导电线电连接；以及第二阵列线，位于基底的接触区上，并将第一堆叠结构的第三导电线电连接到第二堆叠结构的第三导电线，其中，第一阵列线和第二阵列线位于距基底的顶表面同一高度处。
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