[发明专利]一种N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料及其制备方法在审
申请号: | 201710379751.2 | 申请日: | 2017-05-25 |
公开(公告)号: | CN108946734A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 潘秀莲;林雅萍;包信和 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C01B32/956 | 分类号: | C01B32/956;C01B32/162;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;顾炜 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料及其制备方法,所述制备方法包括使用的SiC来源于太阳能电池硅片切割废料中的SiC基混合物,SiC基混合物还原后,经过热处理,然后在一定温度下引入氮源,以制得N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料。本发明充分利用了太阳能电池硅片切割工艺中产生的工业废料中的SiC,对其进行修饰后得到N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料,结合SiC和氮掺杂碳纳米管各自的优势,有效改善了SiC比表面积低问题,并且可以宏量制备,制备方法简单,成本非常低。 | ||
搜索关键词: | 多壁碳纳米管 修饰 制备 太阳能电池硅片 混合物 切割 氮掺杂碳纳米管 热处理 工业废料 氮源 还原 引入 | ||
【主权项】:
1.一种N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料制备方法,其特征在于:将SiC基混合物先还原,再经过进一步热处理并降至室温,然后升温至N掺杂多壁碳纳米管的生长温度,通过惰性气体鼓泡引入氮源以制得N掺杂多壁碳纳米管修饰的SiC复合材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710379751.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。