[发明专利]一种分次蚀刻电镀厚金微带板的图形制作方法有效

专利信息
申请号: 201710383768.5 申请日: 2017-05-26
公开(公告)号: CN107222975B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 杨纯 申请(专利权)人: 安徽四创电子股份有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;H05K3/24
代理公司: 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 34118 代理人: 王挺;柯凯敏
地址: 230088 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明属于微带板制作领域,具体涉及一种分次蚀刻电镀厚金微带板的图形制作方法。本方法包括以下步骤:基板铜面上进行第一次覆膜、第一次曝光显影处理、第一次酸性蚀刻、第一次退膜、第二次覆膜;第二次曝光显影处理、电镀厚金以形成厚金区、第二次退膜以及第二次碱性蚀刻。上述方法既满足了微带线全覆盖式镀厚金需求,又满足了减少连接工艺线的需求,同时又可满足电讯性能、金丝焊接需求。本发明尤其适合制作应用于潮湿等苛刻环境中的厚金微带板,微带板的成品品质、工作稳定性和可靠性均可得到有效保证。
搜索关键词: 一种 蚀刻 电镀 微带 图形 制作方法
【主权项】:
1.一种分次蚀刻电镀厚金微带板的图形制作方法,其特征在于包括以下步骤:(1)、在基板铜面上进行第一次覆膜;(2)、微带线周围0.1‑0.2mm范围内不曝光,微带线图形及其余部分进行曝光处理;之后进行显影处理,从而将微带线图形单独显现出来;(3)、进行第一次酸性蚀刻,从而将微带线按照其精度范围要求蚀刻出来;(4)、退除第一次铜面上附着的膜;(5)、在基板铜面上进行第二次覆膜;(6)、将微带线及其周围0.1‑0.2mm范围内的介质部分不曝光,其他图形部分不曝光,非图形部分及工艺线进行曝光处理;之后进行显影处理,从而将微带线及非微带线路图形显现出来;(7)、电镀厚金以形成厚金区;(8)、退除第二次铜面上附着的膜;(9)、执行第二次碱性蚀刻,将厚金层作为抗蚀层进行碱性蚀刻,获得所需微带板。
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