[发明专利]闪存存储器存储单元有效
申请号: | 201710385065.6 | 申请日: | 2017-05-26 |
公开(公告)号: | CN108962908B | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 刘暐昌;陈震;王献德;向往;塔威;孙川 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/1157 | 分类号: | H01L27/1157;H01L27/11575 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种闪存存储器存储单元,包含一基底、一存储器栅极,设于基底上、一电荷存储层,介于存储器栅极与基底间、一选择栅极,邻近存储器栅极、一选择栅极介电层,设于选择栅极与基底间、一第一氧化物‑氮化物间隙壁,介于存储器栅极与选择栅极间,及一第二氧化物‑氮化物间隙壁。选择栅极包含一上端部位及一下端部位。第二氧化物‑氮化物间隙壁仅介于第一氧化物‑氮化物间隙壁与选择栅极的上端部位间。 | ||
搜索关键词: | 闪存 存储器 存储 单元 | ||
【主权项】:
1.一种闪存存储器存储单元,包含:基底;存储器栅极,设于该基底上;电荷存储层,介于该存储器栅极与该基底间;选择栅极,邻近该存储器栅极,其中该选择栅极包含一上端部位及一下端部位;选择栅极介电层,设于该选择栅极与该基底间;第一氧化物‑氮化物间隙壁,介于该存储器栅极与该选择栅极间;及第二氧化物‑氮化物间隙壁,介于该第一氧化物‑氮化物间隙壁与该选择栅极的该上端部位间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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