[发明专利]一种兼顾光热协同管理的半导体器件有效

专利信息
申请号: 201710386198.5 申请日: 2017-05-26
公开(公告)号: CN107170869B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 宋伟杰;鲁越晖;张贤鹏;陈志成;艾玲;张景;李啸;谭瑞琴 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L31/0216
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种兼顾光热协同管理的半导体器件,所述的半导体器件的出光面或入光面设有微纳结构层;所述的微纳结构层由一种或多种微纳结构排列堆积而成,所述的微纳结构贴近半导体器件出光面或入光面的一端最大宽度为1~3um,且最大宽度沿高度方向逐渐减小。该器件能够增加可见光(380~780nm)、太阳光谱主能量波段(小于2um)光的透射能力,且提升器件本身在8~13um红外波段的热辐射能力。
搜索关键词: 一种 兼顾 光热 协同 管理 半导体器件
【主权项】:
1.一种兼顾光热协同管理的半导体器件,其特征在于,所述的半导体器件的出光面或入光面设有微纳结构层;所述的微纳结构层由一种或多种微纳结构排列堆积而成,所述的微纳结构贴靠半导体器件出光面或入光面的一端最大宽度为1~3um,且最大宽度沿高度方向逐渐减小;其中,光管理所涉及的电磁波谱范围为0.3~1.2um的紫外、可见、近红外区,热管理所涉及的电磁波谱范围为2.5~25um的中红外和远红外区;所述的微纳结构的材质为SiO2
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所,未经中国科学院宁波材料技术与工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710386198.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top