[发明专利]一种阴极磁控溅射靶装置有效
| 申请号： | 201710386405.7 | 申请日： | 2017-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN107151784B | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 毛朝斌;罗超;范江华;舒勇东;佘鹏程;胡凡;彭立波 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阴极磁控溅射靶装置，包括磁性靶材及设于磁性靶材背面的磁体，所述磁性靶材正面设有矩形环状凹槽，所述磁性靶材背面设有与所述矩形环状凹槽对应的矩形环状凸起，所述磁体包括极性相反的中心磁体及外磁体，所述中心磁体设于所述矩形环状凸起的中心，所述外磁体设有四块并分设于所述矩形环状凸起的外周。本发明具有可加强靶材表面的磁场强度、提高靶材溅射的均匀性、减少更换靶材的频率、降低生产成本等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 矩形环状 凸起 阴极 矩形环状凹槽 磁控溅射靶 中心磁体 外磁体 靶材背面 靶材表面 极性相反 均匀性 溅射 外周 磁场 分设 | ||
【主权项】：
1.一种阴极磁控溅射靶装置，包括磁性靶材（300）及设于磁性靶材（300）背面的磁体，其特征在于：所述磁性靶材（300）正面设有矩形环状凹槽（301），所述磁性靶材（300）背面设有与所述矩形环状凹槽（301）对应的矩形环状凸起（302），所述磁体包括极性相反的中心磁体（2）及外磁体（3），所述中心磁体（2）设于所述矩形环状凸起（302）的中心，所述外磁体（3）设有四块并分设于所述矩形环状凸起（302）的外周。
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