[发明专利]一种高日晒分散黑染料混合物及其应用

摘要

本发明涉及染料技术领域，为解决普通高日晒分散染料耐洗，耐摩擦牢度不能兼顾的问题，本发明提出一种高日晒分散黑染料混合物，由染料A 5‑45份、染料B 3‑35份、染料C 3‑30份、染料D 1‑10份、染料E 1‑10份五种组份混合制成。本发明的分散染料混合物及其制品在染色过程中增加了对织物的覆盖率，进一步提高耐日晒牢度和提升力方面的性能，本产品不仅具有良好的耐洗牢度，而且具有卓越的耐摩擦牢度，耐日晒牢度，匀染性能和提升力指标。

主权项

1.一种高日晒分散黑染料混合物，其特征在于，所述的分散黑染料混合物，以重量份计，由染料A5‑45份、染料B 3‑35份、染料C 3‑30份、染料D 1‑10份、染料E1‑10份五种组份混合制成；所述染料A的结构式如(I)所示：式(I)中，X₁，X₂分别独立选自卤素，氢、‑CN中一种，R₁选自H、C1‑C4的烷基或丙烯基中一种；所述染料B的结构式如(II)所示：式(II)中：R₂，R₃，R₄分别独立选自‑OH、‑NH₂、‑NO₂中一种，R₅选自‑H或C1‑C4的烷基；所述染料C的结构式为如(III)所示，其中，染料C中1’5‑二羟基结构物质与1’8‑二羟基结构物质的质量比为30～85∶70～15：式(III)中，R₆，R₇，R₈，R₉分别独立选自‑OH、‑NH₂中一种，X₃为卤素；所述染料D的结构式如(IV)所示：式(IV)中，R₁₀ ，R₁₁分别独立选自‑OH，‑NH₂中一种；R₁₂选自‑H、‑CH₃、‑OCH₃、‑OC₂H₅、‑OC₆H₅、‑OC₆H₁₂OH、‑NHCOC1‑C4酰胺基中的一种，其中R₁₃，R₁₄分别独立选自C1‑C4的烷基中一种；所述染料E的结构式如(V)所示：式(V)中：X₄，X₅分别独立选自‑H、‑Br、‑Cl、‑CN中一种，R₁₅，R₁₆分别独立选自C1‑C4烷基、‑CH₂CH₂CN、‑CH₂CH＝CH₂、‑C₂H₄OC₂H₄OC₂H₅、‑CH₂C₆H₅中一种，R₁₇为‑NHCO‑C1‑C4烷酰胺基。