[发明专利]一种抑制杂散光的物质折射率测量装置有效

专利信息
申请号: 201710395824.7 申请日: 2017-05-31
公开(公告)号: CN107153049B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 郭文平;夏珉;杨克成;李微 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N21/41 分类号: G01N21/41
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 王世芳;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种抑制杂散光的物质折射率测量装置,属于光学仪器领域,其包括光源,输入耦合光学模块,反射测量模块,输出耦合光学模块,阵列器件以及图像采集分析系统,输入耦合光学模块用于接收来自光源的光束并将其聚焦或发散,反射测量模块用于容置待测对象并对其折射率进行测量以获得折射率原始信息,输出耦合光学模块用于收集带有待测对象折射率信息的反射光,阵列器件用于接受带有待测对象折射率信息的反射光,并将其转化为光电信号,图像采集分析系统用于对光电信号进行处理和分析,以直接输出待测对象的折射率数值。本发明通过设计反射测量模块,能巧妙消除测量薄层物质折射率时的杂散光,且能用于测量薄层物质的折射率。
搜索关键词: 光学模块 折射率 反射测量模块 物质折射率 杂散光 图像采集分析系统 折射率信息 测量薄层 测量装置 待测对象 输出耦合 输入耦合 阵列器件 反射光 光源 光学仪器领域 处理和分析 光电信号 原始信息 收集带 发散 容置 测量 聚焦 输出 转化
【主权项】:
1.一种抑制杂散光的物质折射率测量装置,其特征在于,其包括光源(1),输入耦合光学模块(2),反射测量模块,输出耦合光学模块(5),阵列器件(6),图像采集分析系统(7),其中,所述光源(1)用于产生发散光束,所述输入耦合光学模块(2)用于接受来自光源(1)的光束并将其聚焦或发散,所述反射测量模块设置在所述输入耦合光学模块(2)的出射光方向上,用于容置待测对象(4)并对其折射率进行测量以获得折射率原始信息,所述输出耦合光学模块(5)设置在所述反射测量模块的反射光方向上,用于收集带有待测对象折射率信息的反射光,所述阵列器件(6)用于接受带有待测对象折射率信息的反射光,并将其转化为光电信号,所述图像采集分析系统(7)用于对所述光电信号进行处理和分析,以直接输出待测对象的折射率数值,其中,所述反射测量模块包括第一棱镜(3)、第二棱镜(8)以及用于测量时容置待测对象的间隙,所述间隙为第一棱镜(3)的测量面和第二棱镜(8)的测量面相聚间隔而形成,所述间隙的高度为50nm~2mm,所述第一棱镜(3)的底面为测量面,所述第二棱镜(8)的底面为测量面,所述第二棱镜(8)的折射率大于待测物质的折射率,以获得足够的反射光,防止无用的折射光能量过大。
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