[发明专利]基于卷积核的锥束CT散射伪影校正方法有效
| 申请号： | 201710401166.8 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107202805B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 席晓琦;刘建邦;韩玉;闫镔;卜海兵;李磊;孙艳敏;王敬雨;肖凯 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军信息工程大学 |
| 主分类号： | G01N23/046 | 分类号： | G01N23/046;A61B6/03 |
| 代理公司： | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人： | 陈大通 |
| 地址： | 450000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种锥束CT散射伪影校正方法，特别是一种基于卷积核的锥束CT散射伪影校正方法，包括：对被测物进行CT扫描，得到投影数据；估算X射线的初始的光子数N0；利用初始光子数N0计算探测器上的光子数分布；计算X射线散射分布；从原始投影数据中扣除散射分布。本技术方案提出了一种新的卷积核，其中最关键的部分是散射核函数的求解，针对同材质均匀物体，分析X射线与物质相互作用的每个过程，并用数学公式加以描述，从而求得整个平面的散射分布。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 卷积 ct 散射 校正 方法 | ||
【主权项】：
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