[发明专利]适用于负性显影的用于形成有机抗反射涂层的组合物有效
| 申请号： | 201710402064.8 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN107446452B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 卢孝贞;金知贤;金升振;金炫辰 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;C09D133/12;C08J3/24;C08G18/32;C08G18/78;C08F220/14;C08F212/14;C08F220/28 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;高世豪 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及适用于负性显影的用于形成有机抗反射涂层的组合物。公开了一种在负性显影中使用的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其不仅增强了对光刻胶的粘附同时具有高折射率和高蚀刻速率而且改善了底切等的图案轮廓。所述组合物包含：含有至少一个由式2表示的部分的异氰脲酸酯；由式3表示的聚合物；以及用于溶解上述组分的有机溶剂。[式2] |
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| 搜索关键词： | 适用于 显影 用于 形成 有机 反射 涂层 组合 | ||
【主权项】：
一种用于形成有机抗反射涂层的组合物，包含：含有至少一个由下式2表示的部分的异氰脲酸酯化合物；由下式3表示的聚合物；以及用于溶解上述组分的有机溶剂，[式2][式3]在式2中，R独立地为氢原子或甲基，R’独立地为含0至6个杂原子的具有1至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，R”独立地为含0至8个杂原子的具有1至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，两个或更多个由式2表示的部分通过R’连接，在式3中，R1独立地为氢或甲基(‑CH3)，R2为羟基(‑OH)或含0至2个羟基的具有1至5个碳原子的烷氧基，R3为含0至2个杂原子的具有3至15个碳原子的链状或环状饱和或不饱和烃基，R4为含0至3个杂原子的具有5至15个碳原子的芳基，x、y和z各自为构成所述聚合物的各重复单元的摩尔％，x为20摩尔％至80摩尔％，y为1摩尔％至30摩尔％并且z为10摩尔％至50摩尔％。
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