[发明专利]柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置

摘要

本技术公开了一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置，喷嘴排上设有气体喷嘴，磁控溅射程度监测探头有多个，用于检测气体喷嘴的溅射程度，磁控溅射程度监测探头通过屏蔽电信号输出线与磁控溅射程度分析比较装置输入端相连接，磁控溅射程度分析比较装置的输出端通过屏蔽电信号输出线与阀门开度控制装置相连接，阀门开度控制装置用于控制电动阀门的开闭度，每个气体喷嘴上均单独设有电动阀门，气体气源通过不锈钢管依次与气体压力稳压装置、电动阀门、气体喷嘴相连。本技术装置能控制横向各点溅射程度一致，从而控制对应点气体分布密度，达到控制横向相应各点沉积率的目的，使得横向各点膜性能指标均匀一致。

主权项

一种柔性磁控溅射镀膜横向均匀性控制装置，包括喷嘴排、磁控溅射程度监测探头、磁控溅射程度分析比较装置、阀门开度控制装置、电动阀门、气体压力稳压装置、气体气源，所述喷嘴排上设有气体喷嘴，所述磁控溅射程度监测探头有多个，用于检测气体喷嘴的溅射程度，磁控溅射程度监测探头通过屏蔽电信号输出线与磁控溅射程度分析比较装置输入端相连接，磁控溅射程度分析比较装置的输出端通过屏蔽电信号输出线与阀门开度控制装置相连接，阀门开度控制装置用于控制电动阀门的开闭度，每个气体喷嘴上均单独设有电动阀门，气体气源通过管路依次与气体压力稳压装置、电动阀门、气体喷嘴相连。