[发明专利]一种微米尺寸倒装LED芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710405621.1 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN107195747A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 黄华茂;王洪;杨倬波;陈迪涛;梁思炜 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/20;H01L33/40;H01L33/46;H01L33/00;H01L21/027
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 何淑珍
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种微米尺寸倒装LED芯片及其制备方法,特点是制备LED的GaN外延层是台型结构,台型结构的台基和台面都呈圆台型,台基上分布有n‑电极圆环,台面顶部的边缘分布有电流扩展圆环,电流扩展材料在300℃的温度下不会发生离子扩散,电流扩展圆环顶部的边缘和台型结构的侧壁是钝化层,钝化层采用化学气相沉积介质绝缘层和周期数不小于1的分布布拉格反射镜层,台面顶部和钝化层侧壁覆盖p‑反射电极层。本发明可提高反射镜的反射率,同时避免反射电极层中的金属扩散导致的漏电现象,并且在光刻工艺中具有较大的对准容差。
搜索关键词: 一种 微米 尺寸 倒装 led 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
一种微米尺寸倒装LED芯片,其特征是制备该LED芯片的GaN外延层是台型结构,台型结构的台基和台面都呈圆台型,台基上分布有n‑电极圆环,台面顶部的边缘分布有电流扩展圆环,电流扩展圆环顶部的边缘和台型结构的侧壁设有钝化层,台面顶部和钝化层侧壁覆盖p‑反射电极层。
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