[发明专利]利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法，包括对蒸镀腔抽真空至2.5×10^‑8Torr‑3.1×10^‑8Torr，然后开启腔体烘烤，烘烤温度100℃，腔体气压逐渐上升到2.8×10^‑7Torr‑3.6×10^‑7Torr，持续烘烤腔体20‑24小时后，腔内气压回到2.6×10^‑8Torr‑3×10^‑8Torr，关闭烘烤等步骤；本发明在电子束蒸镀系统中加装了载入真空腔，可极大降低衬底载入蒸镀腔时对蒸镀腔内真空环境的破坏，有利于获得高质量的超导钛薄膜。

主权项

1.一种利用蒸镀法在光阻掩膜衬底上制备超导钛薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤011.对蒸镀腔抽真空至3.1×10‑8 Torr，然后开启腔体烘烤，烘烤温度100℃，腔体气压逐渐上升到3.6×10‑7 Torr，持续烘烤腔体24小时后，腔内气压回到3×10‑8 Torr，关闭烘烤；步骤012.开启电子束电流加热金属钛源，并逐步增加电流至镀率达到持续蒸镀5分钟，关闭电子束电流；步骤013.对蒸镀腔抽真空至腔内气压到2.8×10‑8 Torr；步骤014.将光阻掩膜好的衬底放进载入真空腔，并对该腔抽真空，至腔内气压到2.7×10‑6 Torr后将衬底载入蒸镀腔，让腔内水冷系统冷却衬底，冷却水温度为5℃，同时对腔体抽真空，至气压到3.1×10‑8 Torr；步骤015.开启电子束电流加热金属钛源，并逐步增加电流至镀率达到后，打开衬底挡板，开始在衬底上蒸镀钛膜，待钛膜厚度达到时关闭挡板和电子束电流完成镀膜。