[发明专利]用于增强填充物和减少衬底撞击的原子层沉积

摘要

本发明涉及用于增强填充物和减少衬底撞击的原子层沉积。提供了一种用于沉积钨的方法，包括：在衬底处理室中布置包括氮化钛层的衬底，并且使用前体气体在衬底上进行钨的多阶段原子层沉积，所述前体气体包括氯化钨(WClx)气体，其中x是整数。执行包括在第一ALD阶段期间使用第一剂量强度的前体气体沉积钨，以及在第二ALD阶段期间使用第二剂量强度的前体气体沉积钨。第一剂量强度基于第一剂量浓度和第一剂量周期。第二剂量强度基于第二剂量浓度和第二剂量周期。第二剂量强度是第一剂量强度的1.5至10倍。

主权项

一种用于沉积钨的方法，包括：在衬底处理室中布置包括氮化钛层的衬底；使用前体气体在所述衬底上执行钨的多阶段原子层沉积，所述前体气体包括氯化钨(WClx)气体，其中x是整数，并且其中所述执行包括：在第一ALD阶段期间使用第一剂量强度的所述前体气体沉积钨；和在第二ALD阶段期间使用第二剂量强度的所述前体气体沉积钨，其中所述第一剂量强度基于第一剂量浓度和第一剂量周期，其中所述第二剂量强度基于第二剂量浓度和第二剂量周期，以及其中所述第二剂量强度是第一剂量强度的1.5至10倍。