[发明专利]置晶设备的校正方法及使用该方法的置晶设备有效

专利信息
申请号: 201710411294.0 申请日: 2017-06-05
公开(公告)号: CN108986167B 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 卢彦豪 申请(专利权)人: 梭特科技股份有限公司
主分类号: G06T7/73 分类号: G06T7/73;G06T1/00;B25J9/10;H01L21/67
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 王洁
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明涉及一种置晶设备的校正方法,用于校正置晶设备的持取构件在置晶平面中各个预定位置的误差,该校正方法包含使影像感测构件撷取含有基准校正构件的基准位置影像的基准校正影像撷取步骤、撷取显示出持取构件与基准校正构件的相对位置关系的对位影像的对位影像撷取步骤、以及图像处理计算步骤,计算出持取构件在位置对应于基准校正构件的状态下,持取构件与预定位置之间的相对误差量,并对应产生持取构件对应该预定位置的补偿校正值。本发明并提供一种使用该校正方法的置晶设备。
搜索关键词: 设备 校正 方法 使用
【主权项】:
1.一种置晶设备的校正方法,用于校正置晶设备的持取构件在置晶平面中各个预定位置的误差,所述的置晶设备包括置晶机构及对位机构,所述的置晶机构包括所述的持取构件及影像感测构件,所述的对位机构包括对位影像感测构件及设于所述的置晶平面的基准校正构件,其特征在于,所述的持取构件用以持取晶粒或标记件,所述的校正方法包含:基准校正影像撷取步骤,在所述的影像感测构件于预定位置而位置对应所述的基准校正构件的状态下,所述的影像感测构件撷取含有所述的基准校正构件的基准位置影像;对位影像撷取步骤,使所述的持取构件位置对应于所述的基准校正构件,并利用所述的对位影像感测构件,在所述的持取构件位置对应于所述的基准校正构件的状态下,撷取显示出所述的持取构件持取的所述的标记件与所述的基准校正构件的相对位置关系的对位影像;以及图像处理计算步骤,比对所述的对位影像与所述的基准位置影像,计算出所述的持取构件在位置对应于所述的基准校正构件的状态下,所述的持取构件与所述的预定位置之间的差值,并对应产生所述的持取构件对应所述的预定位置的补偿校正值。
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