[发明专利]一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法在审
申请号: | 201710415772.5 | 申请日: | 2017-06-05 |
公开(公告)号: | CN107092017A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 胡大海;常庆功;杜刘革;王亚海 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90 |
代理公司: | 青岛智地领创专利代理有限公司37252 | 代理人: | 种艳丽 |
地址: | 266555 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法,属于电子技术领域。本发明不需要建造大型的微波暗室,大大节省了测试成本,与传统RCS外推技术相比,本发明采用了近场MIMO阵列成像技术,显著减少了数据采集时间,提高了测试速度,适用范围更广。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 近场 mimo 成像 rcs 方法 | ||
【主权项】:
一种基于近场MIMO成像的RCS外推方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤1:获得天线方向图参数;步骤2:建立坐标系,确定MIMO阵列接收天线和发射天线的坐标位置;步骤3:控制MIMO阵列进行二维电子扫描以采集测试数据,记录接收天线和发射天线在每个采样点的位置(xTx,0,zTx)、(xRx,0,zRx)以及采样数据s′(xTx,xRx,zTx,zRx,k);步骤4:对采样数据s′(xTx,xRx,zTx,zRx,k)进行散射数据校准以及方向图补偿处理得到新的采样数据s(xTx,xRx,zTx,zRx,k);步骤5:通过二维MIMO获取目标近场散射图像的原理对步骤4中的采样数据s(xTx,xRx,zTx,zRx,k)进行成像处理,获得目标近场散射图像f(x,y,z);步骤6:通过CLEAN算法提取目标的散射中心数据;步骤7:根据RCS远场数据重构获得目标远场的RCS数据。
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