[发明专利]一种工件二次取向的测定方法有效
申请号: | 201710415871.3 | 申请日: | 2017-06-05 |
公开(公告)号: | CN107421972B | 公开(公告)日: | 2019-10-01 |
发明(设计)人: | 朱彦婷 | 申请(专利权)人: | 朱彦婷 |
主分类号: | G01N23/207 | 分类号: | G01N23/207 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 550009 贵州省贵阳市云岩*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明是关于一种工件二次取向的测定方法,包括,待测工件至少包括第一晶粒,获取所述的第一晶粒的表面取向;获取所述的第一晶粒在001取向与011取向上的衍射角2θ;将所述的待测工件放置在测量系统的测量平台上;所述的X射线发射装置发射出的X射线的角度为ψ,所述的待测工件转动的角度为固定所述的衍射角2θ,改变所述的ψ和分别记录所述的第一晶粒在001取向与011取向衍射最强峰时的ψ001、和ψ011、根据所述的ψ001、和ψ011、计算所述的第一晶粒的二次取向偏角。 | ||
搜索关键词: | 一种 工件 二次 取向 测定 方法 | ||
【主权项】:
1.一种工件二次取向的测定方法,其特征在于:包括,步骤一:待测工件至少包括第一晶粒,获取所述的第一晶粒的表面取向;步骤二:获取所述的第一晶粒在001取向与011取向上的衍射角2θ;步骤三:将所述的待测工件放置在测量系统的测量平台上,所述的测量系统包括X射线发射装置和信号接收装置;所述的步骤三中,以所述的测量系统为基础建立第一空间坐标系,所述的测量系统包括旋转平台,所述的旋转平台为所述的第一空间坐标系的第一平面,所述的旋转平台的中心点为第一位点,将所述的待测工件的待测部位放置在所述的第一位点处;所述的步骤三中,以所述的待测工件为基础建立第二空间坐标系,定义所述的第一空间坐标系为O‑EAD,其中,所述的O点为所述的第一空间坐标系的中心位点,即所述的第一位点,定义所述的旋转平台所在的平面为所述的第一空间坐标系的第一平面,所述的D点和E点位于所述的第一平面,且OD垂直于OE,所述的第一平面还包括G点,且OG垂直于OE,所述的A点位于所述的第一平面的上部空间,OA垂直于所述的第一平面;定义所述的第二空间坐标系为O′‑xyz,所述的O′点为所述的待测工件的待测部位,所述的O′点位于所述的OA上,所述的第二空间坐标系的O′x、O′y、O′z方向分别与所述的第一空间坐标系的OE、OD、OA方向重合;步骤四:所述的X射线发射装置发射出的X射线的角度为ψ,所述的待测工件转动的角度为固定所述的衍射角2θ,改变所述的ψ和分别记录所述的第一晶粒在001取向与011取向衍射最强峰时的ψ001、和ψ011、步骤五:根据所述的测量系统,建立第三空间坐标系根据所述的第一晶粒,建立第四空间坐标系所述的分别与001、010、100取向重合,以及为011在工件坐标系的向量坐标;获取所述的第一晶粒偏离001方向的角ψ001、所述的第一晶粒偏离011方向的角ψ011、设的方向向量为单位向量,则x3=cosφ001×sinψ001,y3=sinφ001×sinψ001,z3=cosψ001;x4=cosφ011×sinψ011,y4=sinφ011×sinψ011,z4=cosψ011;x2=y3·z4‑y4·z3=sinφ001×sinψ001×cosψ011‑sinφ011×sinψ011×cosψ001,y2=z3·x4‑z4·x3=cosφ011×sinψ011‑cosψ011×cosφ001×sinψ001,z2=x3·y4‑x4·y3=cosφ001×sinψ001×sinφ011×sinψ011‑cosφ011×sinψ011×sinφ001×sinψ001;x1=y2·z3‑y3·z2,y1=z2·x3‑z3·x2,z1=x2·y3‑x3·y2;分别计算与(1,0,0)的第一夹角、计算与(1,0,0)的第二夹角,比较所述的第一夹角和第二夹角,若所述的第一夹角小于所述的第二夹角,则所述的第一夹角为所述的第一晶粒的二次取向偏角,若所述的第一夹角大于所述的第二夹角,则所述的第二夹角为所述的第一晶粒的二次取向偏角。
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