[发明专利]聚合物膜及其制备方法、应用在审

专利信息
申请号: 201710419601.X 申请日: 2017-06-06
公开(公告)号: CN107150465A 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 庄孝磊;张杰;周枫青;谭伟杰;刘歆 申请(专利权)人: 上海天臣防伪技术股份有限公司
主分类号: B32B3/30 分类号: B32B3/30;B32B7/12;B32B15/09;B32B15/20;B32B33/00;B32B38/06;B32B37/02;B32B38/16
代理公司: 上海弼兴律师事务所31283 代理人: 薛琦,余化鹏
地址: 201614 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种聚合物膜及其制备方法、应用。该聚合物膜包括基材层和成型树脂层,成型树脂层附着于基材层上;成型树脂层远离基材层的一面具有若干微米级凸起,微米级凸起的底面宽度为50μm~2000μm,微米级凸起的高度为20μm~1000μm,相邻两个微米级凸起的间距为10μm~500μm;聚合物膜还包括纳米颗粒层,纳米颗粒层的纳米颗粒的平均粒径为3~150nm;纳米颗粒层附着于具有微米级凸起的成型树脂层的表面。该聚合物膜的纳米颗粒在微米级凸起之间形成的三维网状结构稳定性、牢度性好,该聚合物膜的疏水性好,耐触性和耐磨擦性好,且热封特性好。该制备方法,工艺简单、成本较低。
搜索关键词: 聚合物 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种聚合物膜,其特征在于,所述聚合物膜包括基材层和成型树脂层,所述成型树脂层附着于所述基材层上;所述成型树脂层远离所述基材层的一面具有若干微米级凸起,所述微米级凸起的底面宽度为50μm~2000μm,所述微米级凸起的高度为20μm~1000μm,相邻两个所述微米级凸起的间距为10μm~500μm;所述聚合物膜还包括纳米颗粒层,所述纳米颗粒层的纳米颗粒的平均粒径为3~150nm;所述纳米颗粒层附着于具有所述微米级凸起的所述成型树脂层的表面。
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