[发明专利]一种提高单层过渡金属硫化物材料发光性能的方法有效
申请号: | 201710425064.X | 申请日: | 2017-06-06 |
公开(公告)号: | CN107313024B | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 姚慧珍;陈龙龙;张文静;时玉萌 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/56;H01L31/0264;H01L33/26 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 谢肖雄 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种采用无机盐对单层过渡金属硫化物(TMDCs)材料表面处理来提高其发光性能的方法,属于二维材料发光领域;该方法主要由化学气相沉积法或机械剥离制备单层TMDCs材料和滴涂法对单层TMDCs进行表面化学盐溶液修饰两部分组成;其原理是:无机盐中的阴离子与单层TMDCs材料表面存在的悬键结合成化学键,修补了单层TMDCs材料表面本身存在的结构缺陷,减少了材料内部的非辐射复合中心,改善了单层TMDCs材料的发光性能;本发明通过无机盐类对单层TMDCs材料进行表面处理调节了材料本身的发光机制,提高了其发光强度并使发光强度的空间分布变得均匀,填补了无机盐类来改善单层TMDCs材料发光性能的空白;本发明可广泛应用于单层TMDCs材料光电探测器等纳米光电子领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 单层 过渡 金属 硫化物 材料 发光 性能 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高单层过渡金属硫化物材料发光性能的方法,其特征在于,包括以下步骤,步骤A:采用化学气相沉积法制备呈现规则三角形状的单层TMDCs材料,或采用机械剥离得到的单层TMDCs材料;步骤B:配置无机盐产品,所述无机盐产品的溶质为A2X和AY,其中A代表Na+和K+,X代表S2‑、SO32‑和SO42‑,Y代表Cl‑、F‑、Br‑、HS‑和NO3‑。步骤C:使用步骤B产品对所述单层TMDCs材料进行表面化学处理,所述表面化学处理指全面均匀覆盖;步骤D:使用无水乙醇和超纯水混合溶液对步骤C获得的产品进行清洗并吹干。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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