[发明专利]一种锡酸镉基透明导电膜、其生产工艺及太阳能电池

摘要

本申请提供了一种锡酸镉基透明导电膜、其生产工艺及太阳能电池。本申请的生产工艺中先将靶材在含氧气体环境中进行磁控溅射，再复合过渡膜层，之后在保护性气氛下进行退火。按照本发明的制备方法无需进行紧贴退火方式，直接在保护气氛下退火即可，大大简化了退火工艺，能够实现工业化大规模生产。本发明还提供了一种锡酸镉基透明导电膜及包含该锡酸镉基透明导电膜的太阳能电池，相比于现有商业化TCO膜，本发明提供的锡酸镉基透明导电膜的电学和光学性能明显提高。

主权项

1.一种锡酸镉基透明导电膜的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：a)将靶材在含氧气体环境中进行磁控溅射，得到前体CTO基膜；所述靶材为由SnO2与CdO组成的靶材，或为Sn‑Cd合金靶材；b)在所述前体CTO基膜表面复合过渡膜层，再在保护性气氛下进行退火，得到锡酸镉基透明导电膜；所述过渡膜层为CdS膜层和/或金属膜层；所述金属膜层为Ni膜层、Al膜层、Au膜层、Ag膜层或Cu膜层。