[发明专利]蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201710432905.X | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN108385109B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 张晌勋;南基龙;沈庆辅;李承洙;朴英哲 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供蚀刻液组合物及使用其的显示装置用阵列基板的制造方法，所述蚀刻液组合物是含银薄膜的蚀刻液组合物，其包含磷酸5.0～48.0重量％、硝酸2.0～9.0重量％、乙酸5.0～15.0重量％、硝酸铁0.1～5.0重量％和余量的水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 利用 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含银薄膜的蚀刻液组合物，其包含磷酸5.0～48.0重量％、硝酸2.0～9.0重量％、乙酸5.0～15.0重量％、硝酸铁0.1～5.0重量％和余量的水。
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