[发明专利]半导体装置和制造半导体装置的方法在审

专利信息
申请号: 201710432937.X 申请日: 2017-06-09
公开(公告)号: CN107527929A 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 饭塚康治;佐藤英则 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 李兰,孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种半导体装置和制造半导体装置的方法。本发明的目的是为了提供具有提高的灵敏度并且同时导致较少暗电流、噪声等的固态图像传感器。在具有由N型半导体基底和其上的P型外延层组成的基底的固态图像传感器中,在隔离区中形成穿透所述外延层的沟槽,所述隔离区在其中具有像素阵列的像素区和在像素区周围的外围电路区之间;以及形成由绝缘膜组成的DTI结构,所述沟槽被填充有所述绝缘膜。从而防止在所述像素区和所述外围电路区之间的基底中的电子转移。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置具有固态图像传感器,所述固态图像传感器配备有包括光电二极管的像素,所述半导体装置包括:N导电类型的半导体基底,所述半导体基底具有主表面;半导体层,所述半导体层形成在所述半导体基底上方并且具有P导电类型;在第一区域中形成在所述半导体层的上表面的多个所述光电二极管;晶体管,所述晶体管在平面视图中围绕所述第一区域的第二区域中形成在所述半导体层的上方;元件隔离区,所述元件隔离区掩埋在第一沟槽中,所述第一沟槽在所述光电二极管之间形成在所述半导体层的所述上表面中;以及包括第一绝缘膜的隔离部,所述隔离部形成在所述第一区域和所述第二区域之间的第三区域中的所述半导体层中并且形成在比所述第一沟槽深的第二沟槽中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710432937.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top