[发明专利]光学膜的制造方法以及光学膜有效

专利信息
申请号: 201710440041.6 申请日: 2016-02-10
公开(公告)号: CN107219569B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 林秀和;田口登喜生;山田信明;芝井康博;新纳厚志;中松健一郎 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02B1/118 分类号: G02B1/118;G02B1/18
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝;侯剑英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括:工序(1),涂敷下层树脂和上层树脂;工序(2),在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下,将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂,形成在表面具有凹凸结构的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体,上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体,上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体,并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
搜索关键词: 光学 制造 方法 以及
【主权项】:
一种光学膜,包括在表面具有凹凸结构的固化树脂层,上述光学膜的特征在于,上述凹凸结构以可见光的波长以下的间距设有多个凸部,上述固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子,如果将在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法测定的上述凹凸结构的表面的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MFS,将在深度方向离上述凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D的位置处的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MFD,其中,上述MFS、MFD的单位为原子%,上述D的单位为nm,则MFS为33原子%以上,且满足MFD/MFS=0.3时的D为240nm以上。
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