[发明专利]激光调节方法和激光源装置

摘要

本发明公开了激光调节方法和激光源装置。该激光调节方法包括第一调节步骤和第二调节步骤。在第一调节步骤中，使用检测二次谐波光的光检测器检测二次谐波光的光强度和波长，并调节第一温度调节器，以调节Nd:YVO4晶体和KTP晶体的温度，使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长，并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。在第一调节步骤之后的第二调节步骤中，使用第二温度调节器调节校准器的温度，使得检测的二次谐波光的波长接近所需波长，并且二次谐波光的光强度至少达到预定值。

主权项

一种用于激光源装置的激光调节方法，该激光源装置包括发射激发光的激发光源；接收激发光并产生基波光的激光介质；将基波光转换为具有所需波长的谐波光的非线性光学晶体；允许预定波长的光通过的校准器；在内部容纳激光介质、非线性光学晶体和校准器的谐振腔外壳；控制激光介质和非线性光学晶体的温度的第一温度调节器；和控制校准器的温度的第二温度调节器，所述激光调节方法包括：第一调节过程，包括：使用光检测器检测谐波光的光强度和波长，和使用第一温度调节器调节激光介质和非线性光学晶体的温度，使得测得的谐波光的波长接近所需波长，并且谐波光的光强度至少达到预定值；和第二调节过程，包括：在第一调节过程后使用光检测器检测谐波光的光强度和波长，和使用第二温度调节器调节校准器的温度，使得测得的谐波光的波长接近所需波长，并且谐波光的光强度至少达到预定值。