[发明专利]金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法有效
| 申请号： | 201710452420.7 | 申请日： | 2017-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN107227438B | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 吴建鹏;丁渭渭;杨忠英;罗昶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗瑞芝;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法。该金属掩膜板的设计方法包括步骤：根据所述金属掩膜板在使用时的拉伸力、以及所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量；根据所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式补偿所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变。该方法通过计算金属掩膜板的张网收缩率，从而获得金属掩膜板制作时需要的补偿量，进而在金属掩膜板设计时进行补偿，在金属掩膜板的设计初期就考虑金属掩膜板的形变量，设计包含了补偿量的金属掩膜板，降低金属掩膜板的工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 掩膜板 设计 方法 制备 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩膜板的设计方法，其特征在于，包括步骤：根据所述金属掩膜板在使用时的拉伸力、以及所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量；根据所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式补偿所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变；获取所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性包括：确定所述金属掩膜板的设计尺寸；获取用于制备所述金属掩膜板的材料属性；根据所述金属掩膜板的设计尺寸、以及用于制备所述金属掩膜板的材料属性，计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性；所述金属掩膜板的设计尺寸包括长度、宽度和厚度，以及所述金属掩膜板中的开口尺寸、横向开口间距和纵向开口间距；用于制备所述金属掩膜板的材料属性包括杨氏模量和泊松比；计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性为：所述金属掩膜板的拉伸方向杨氏模量Ex为：Ex＝E×e/(a+e)所述金属掩膜板的垂直于拉伸方向的方向杨氏模量Ey为：Ey＝E×b/(c+b)所述金属掩膜板的泊松比ν为：ν＝ν0×l/w×((a+e)*(b+c)/(a·b))1/2其中：所述金属掩膜板的宽度为w，长度为l，所述金属掩膜板中的开口大小为a·b，横向开口间距为e，纵向开口间距为c，用于制备所述金属掩膜板的材料的杨氏模量为E，泊松比为ν0。
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