[发明专利]一种醋酸阿比特龙还原杂质及其制备方法在审
| 申请号： | 201710453011.9 | 申请日： | 2017-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN107236015A | 公开（公告）日： | 2017-10-10 |
| 发明（设计）人： | 杨军;刘宇晶;胡长欣;张涛;雷文贵;潘俊辛;吴彤;宋波 | 申请（专利权）人： | 甘肃兰药药业有限公司 |
| 主分类号： | C07J43/00 | 分类号： | C07J43/00 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心62100 | 代理人： | 马英 |
| 地址： | 730046 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种醋酸阿比特龙还原杂质及其制备方法，该杂质为17‑（3‑吡啶基）雄甾‑3β‑乙酰氧基，其制备方法包括以下步骤以去氢表雄酮作为起始物料，用钯碳催化氢化得到(3β)‑3‑羟基‑17‑甾酮，然后用水合肼反应得到17‑亚肼基‑雄甾‑3β‑醇，碘取代得到17‑碘‑雄甾‑3β‑醇，钯催化下与硼烷试剂反应得到17‑（3‑吡啶基）雄甾‑3β‑醇，醋酸酐乙酰化得到醋酸阿比特龙还原杂质17‑（3‑吡啶基）雄甾‑3β‑乙酰氧基。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 醋酸 比特 还原 杂质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
如化学式（1）所示的醋酸阿比特龙还原杂质17‑（3‑吡啶基）雄甾‑3β‑乙酰氧基。
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