[发明专利]表面增强拉曼散射基底及其制备工艺有效
| 申请号： | 201710458327.7 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN107337176B | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 潘革波;张淼荣 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;中国科学院大学 |
| 主分类号： | B82B1/00 | 分类号： | B82B1/00;B82B3/00;B82Y30/00;B82Y40/00;G01N21/65 |
| 代理公司： | 44304 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种表面增强拉曼散射基底及其制备方法，所述表面增强拉曼散射基底包括衬底，所述衬底的表面具有微结构阵列，所述微结构阵列是由多个微结构阵列排布而成，所述表面增强拉曼散射基底还包括覆盖于所述微结构阵列表面的金属纳米颗粒。所述制备方法包括；提供一衬底；刻蚀所述衬底，以在其表面形成微结构阵列；至少在所述衬底上形成有微结构阵列的区域沉积金属纳米颗粒，以制得所述表面增强拉曼散射基底。本发明提出的表面增强拉曼散射基底成本低廉、稳定性和灵敏度高、重现性好、能满足多种需求，且所述表面增强拉曼散射基底的制备工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 增强 散射 基底 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种表面增强拉曼散射基底，其特征在于，包括衬底，所述衬底的表面具有微结构阵列，所述微结构阵列是由所述衬底经过刻蚀得到，以使所述微结构阵列的材质与所述衬底的材质相同；所述微结构阵列是由多个微结构阵列排布而成，所述表面增强拉曼散射基底还包括覆盖于所述微结构阵列表面的金属纳米颗粒，所述微结构的形状为纳米花型。/n
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