[发明专利]用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统在审
| 申请号： | 201710462095.2 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107523804A | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 伊时塔克·卡里姆;阿德里安·拉瓦伊 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人： | 樊英如,邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于膜轮廓调节的喷头帘式气体方法和系统。公开了一种沉积膜的方法和系统。所述方法可以包括(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件，(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站，(c)在(b)期间或之后，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善衬底的不均匀性；以及(d)在(c)之后，根据(c)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。所述系统可以包括气体输送系统、处理室以及具有用于执行(a)‑(d)中的一项或多项的控制逻辑的控制器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 轮廓 调节 喷头 气体 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种在多站式半导体处理室内沉积膜的方法，所述方法包括：(a)确定用于在所述室内进行膜沉积的工艺条件，所述工艺条件包括在所述室内围绕每个站的周边流动的帘式气体的流动条件；(b)根据(a)中确定的所述工艺条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流到所述室内的每个站；(c)在(b)期间或之后，确定衬底的不均匀性；(d)基于所述衬底的不均匀性，确定所述室内的所述帘式气体的经调节的流动条件，以改善所述衬底的不均匀性；以及(e)在(d)之后，根据(d)中确定的所述经调节的流动条件，在膜沉积期间，使所述帘式气体流动。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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