[发明专利]光束整形装置在审
| 申请号： | 201710465010.6 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN107121781A | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 杨立梅;黄伟;李丰;张巍巍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B27/30 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光束整形装置，包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤，光源包括多个阵列设置的半导体激光器，第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜，第一透镜与半导体激光器一一正对对应，第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜，第二透镜与第一透镜一一正对对应；光源位于第一透镜阵列的前焦平面，第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直，第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直，通过对光源在慢轴方向上的光进行准直，减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗，从而提高了整形效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 整形 装置 | ||
【主权项】：
一种光束整形装置，其特征在于，包括光源、依次远离所述光源并设置于所述光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤，所述光源包括多个阵列设置的半导体激光器，所述第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜，所述第一透镜与所述半导体激光器一一正对对应，所述第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜，所述第二透镜与所述第一透镜一一正对对应；所述光源位于所述第一透镜阵列的前焦平面，所述第一透镜阵列的后焦平面与所述第二透镜阵列的前焦平面重合。
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