[发明专利]一种采用lift-off原理制作方形光栅的方法有效
| 申请号： | 201710472796.4 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN107024730B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 梁万国;李广伟;张新汉;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 | 申请（专利权）人： | 福建中科晶创光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 福州科扬专利事务所 35001 | 代理人： | 罗立君 |
| 地址： | 350100 福建省福州市闽侯县上街镇科技东路中*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种采用lift‑off原理制作方形光栅的方法，包括以下依序进行的步骤：①对方形基片进行清洁；②真空旋转涂胶，使用真空涂胶机对方形基片进行涂胶，胶液通过旋转离心力均匀分散涂抹在方形基片表面；③热板平移烘干，在真空环境下采用平行基片的热板对完成步骤②的方形基片的胶液进行烘干；④对完成步骤③的基片进行全息曝光和显影；⑤ICP刻蚀，对完成步骤④的基片进行刻蚀；⑥镀膜，使用镀膜夹具夹住方形基片，在镀膜机中对完成步骤⑤的基片进行镀膜；⑦胶合，对完成步骤⑥后的基片进行紫外胶胶合；⑧分离，紫外固化结束后，采用子母光栅分离装置将母光栅和子光栅基片进行分离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 lift off 原理 制作 方形 光栅 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用lift‑off原理制作方形光栅的方法，其特征在于：包括以下依序进行的步骤：①对方形母版基片进行清洁；②真空旋转涂胶，使用真空涂胶机对方形母版基片进行涂胶，胶液通过旋转离心力均匀分散涂抹在方形母版基片表面；③热板平移烘干，在真空环境下采用平行母版基片的热板对完成步骤②的方形母版基片的胶液进行烘干；④对完成步骤③的方形母版基片进行全息曝光和显影；⑤ICP刻蚀，对完成步骤④的方形母版基片进行刻蚀形成母光栅(7)；⑥镀膜，使用镀膜夹具夹住母光栅(7)，在镀膜机中对完成步骤⑤的母光栅(7)进行镀膜；⑦胶合，在完成步骤⑥后的方形母版基片上涂覆紫外固化胶，然后在紫外固化胶上贴子光栅(9)基片进行紫外胶胶合；⑧分离，紫外固化结束后，采用子母光栅分离装置(3)将母光栅(7)和子光栅基片(9)进行分离；所述子母光栅分离装置(3)包括冷冻室(31)以及设置于冷冻室(31)内的分离钳(32)，所述分离钳(32)包括主升降平台(320)以及安装在主升降平台(320)上的子光栅载物台和母光栅载物台，所述子光栅载物台包括子光栅二维位移台(321)、与子光栅二维位移台(321)连接的子光栅升降台(322)、一子光栅基片夹持器(323)设置于子光栅载物台上，所述母光栅载物台包括六自由度PI并联微动平台(324)和与六自由度PI并联微动平台(324)连接的母光栅二维位移台(325)，一母光栅夹持器(326)设置于母光栅载物台上，六自由度PI并联微动平台(324)可实现对母光栅(7)的六个方向的精确微调。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建中科晶创光电科技有限公司，未经福建中科晶创光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710472796.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
