[发明专利]深黑色金属薄膜及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201710475000.0 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN107267943B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 张鹏飞 | 申请（专利权）人： | 维达力实业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 叶丹丹 |
| 地址： | 518129 广东省深圳市龙岗区坂田街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种深黑色金属薄膜及其制备方法和应用。该深黑色金属薄膜的制备方法具体包括以下步骤：沉积金属碳化物过渡层：通入乙炔和/或甲烷及氩气，使用所述靶材在所述金属打底层上进行磁控溅射沉积；沉积金属碳氧化合物颜色层:通入氧气、乙炔和/或甲烷及氩气，使用所述靶材在所述金属碳化物过渡层进行磁控溅射沉积。该制备方法能够稳定地制备深黑色金属薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 黑色金属 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种深黑色金属薄膜的制备方法，其特征在于，在真空条件及温度范围为50℃～300℃的条件下，使用铬靶、钛靶或钨靶的靶材进行磁控溅射，具体包括以下步骤：使用所述靶材轰击处理基材；沉积金属打底层：使用所述靶材在所述基材上进行磁控溅射沉积；沉积金属碳化物过渡层：通入乙炔和/或甲烷及氩气，使用所述靶材在所述金属打底层上进行磁控溅射沉积，其中，乙炔和/或甲烷的流量采用渐增方式增加，乙炔和/或甲烷的流量：100sccm～1000sccm，氩气的流量：100sccm～1500sccm，真空室压强：0.1Pa～1.5Pa，靶材电流：10A～40A，时间：30min～90min，偏压：‑50V～‑400V；沉积金属碳氧化合物颜色层：通入氧气、乙炔和/或甲烷及氩气，使用所述靶材在所述金属碳化物过渡层进行磁控溅射沉积，其中，氧气的流量：10sccm～200sccm，乙炔和/或甲烷的流量：100sccm～1000sccm，氩气的流量：100sccm～1500sccm，真空室压强：0.1Pa～1.5Pa，靶材电流：10A～40A，时间：1min～15min，偏压：‑30V～‑200V。
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