[发明专利]减压干燥设备

摘要

本发明提供一种减压干燥设备，包括密封腔室，所述密封腔室设置有承载平台，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板，所述承载平台上还设置有温度调节模块，以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀；本发明能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。

主权项

一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，其特征在于，包括：密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。