[发明专利]活性剂及其在改善铝合金CMT焊接头熔深中的应用在审

专利信息
申请号: 201710481966.5 申请日: 2017-06-22
公开(公告)号: CN109108426A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 胡绳荪;田银宝;申俊琦;王志江;白鹏飞 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: B23K3/08 分类号: B23K3/08
代理公司: 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 代理人: 王秀奎
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开活性剂及其在改善铝合金CMT焊接头熔深中的应用,活性剂由SiO2、TiO2和Cr2O3组成,在铝合金CMT焊接前,在铝板上涂敷一层活性剂。当焊缝表面未涂敷活性剂时,熔池中心液态金属从熔池底部向熔池表面流动,而当焊缝表面涂敷活性剂后,液态金属流向发生了改变,由熔池表面向熔池底部流动,从而导致电弧收缩,同时电磁力增加和熔池表面张力梯度由负值变为正值,使得熔深增加。
搜索关键词: 活性剂 熔池 铝合金 熔深 涂敷 焊缝表面 熔池表面 液态金属 表面张力梯度 电弧收缩 电磁力 铝板 流动 应用
【主权项】:
1.活性剂,其特征在于,由二氧化硅、二氧化钛和三氧化二铬组成,二氧化硅、二氧化钛和三氧化二铬均为纯度大于等于99%的粉末,粒径为100—500目;二氧化硅、二氧化钛和三氧化二铬的质量比(2—5):(1—2):(1—2),二氧化钛和三氧化二铬为等质量比。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津大学,未经天津大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710481966.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top