[发明专利]可调电容及阻抗匹配装置在审
| 申请号： | 201710485860.2 | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN109119248A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 韦刚;成晓阳 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01G7/06 | 分类号： | H01G7/06;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可调电容，包括铁电介质层和位于所述铁电介质层相对两侧的第一电极和第二电极；所述可调电容还包括与第一电极和第二电极绝缘设置的第一控制电极和第二控制电极；所述第一控制电极和所述第二控制电极，用于向所述铁电介质层提供电场，以通过控制所述电场的电场强度来调整所述铁电介质层的介电常数，从而调节所述第一电极和第二电极之间的容值。本发明还提供一种阻抗匹配装置及半导体加工设备。该可调电容、阻抗匹配装置及半导体加工设备，能够实现毫秒级甚至更快调节介质可调电容的容值大小，从而可以加快匹配速度，能够实现毫秒级甚至更快的匹配速度。 | ||
| 搜索关键词： | 可调电容 铁电介质层 控制电极 阻抗匹配装置 第二电极 第一电极 半导体加工设备 电场 匹配 介电常数 绝缘设置 相对两侧 | ||
【主权项】：
1.一种可调电容，其特征在于，包括铁电介质层和位于所述铁电介质层相对两侧的第一电极和第二电极；所述可调电容还包括与第一电极和第二电极绝缘设置的第一控制电极和第二控制电极；所述第一控制电极和所述第二控制电极，用于向所述铁电介质层提供电场，以通过控制所述电场的电场强度来调整所述铁电介质层的介电常数，从而调节所述第一电极和第二电极之间的容值。
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