[发明专利]一种偏压调制方法、偏压调制系统和等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201710486330.X | 申请日： | 2017-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN109119317B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 苏恒毅;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 左文;段志慧 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种偏压调制方法、偏压调制系统和等离子体处理设备。该偏压调制方法将偏压射频源产生的偏压功率加载于承载待加工工件的基座上，以使放置于基座上的待加工工件的表面产生负偏压，在偏压功率加载期间，偏压射频源产生的电压由初始电压增加至目标电压，以补偿待加工工件表面损失的负偏压，从而使待加工工件表面的负偏压在偏压功率加载期间保持预设的范围。本发明还公开了一种偏压调制系统。本发明公开的等离子体处理设备包括本发明的偏压调制系统。本发明的偏压调制方法、偏压调制系统和等离子体处理设备均能使待加工工件表面的负偏压保持在预设范围，从而使待加工工件的工艺速率(如刻蚀速率或沉积速率)保持在预设范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏压 调制 方法 系统 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种偏压调制方法，将偏压射频源产生的偏压功率加载于承载待加工工件的基座上，以使放置于所述基座上的所述待加工工件的表面产生负偏压，其特征在于，在所述偏压功率加载期间，所述偏压射频源产生的电压由初始电压增加至目标电压，以补偿所述待加工工件表面损失的负偏压，从而使所述待加工工件表面的负偏压在所述偏压功率加载期间保持预设的范围。
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