[发明专利]自卷曲薄膜及其制备方法和自卷曲方法在审
申请号: | 201710487669.1 | 申请日: | 2017-06-23 |
公开(公告)号: | CN109112727A | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 简秀纹 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | D04H1/728 | 分类号: | D04H1/728;D04H1/74;D04H1/4374;D04H1/42 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 谢志为 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种自卷曲薄膜的制备方法,包括:提供一静电纺丝装置,包括一收集器;采用静电纺丝方法在该收集器上制备一纳米纤维基体薄膜,所述纳米纤维基体薄膜由高分子纳米纤维按第一排列方式排列而成,所述第一排列方式为该纳米纤维基体薄膜的高分子纳米纤维沿同一方向有序排列;采用静电纺丝方法在该纳米纤维基体薄膜上制备一纳米纤维可变形薄膜,从而得到纳米纤维复合膜,该纳米纤维可变形薄膜由高分子纳米纤维按第二排列方式排列而成,该纳米纤维可变形薄膜的高分子纳米纤维包括一环境敏感型材料,使其在环境温度升高或紫外光照射条件下收缩或膨胀;将该纳米纤维复合膜从该收集器上分离并裁剪为所需尺寸。 | ||
搜索关键词: | 纳米纤维 高分子纳米纤维 基体薄膜 制备 可变形薄膜 排列方式 收集器 卷曲 纳米纤维复合膜 静电纺丝 薄膜 环境敏感型材料 静电纺丝装置 紫外光照射 同一方向 裁剪 收缩 膨胀 | ||
【主权项】:
1.一种自卷曲薄膜的制备方法,包括:提供一静电纺丝装置,该静电纺丝装置包括一收集器;采用静电纺丝方法在该收集器上制备一纳米纤维基体薄膜,所述纳米纤维基体薄膜由高分子纳米纤维按第一排列方式排列而成,所述第一排列方式为该纳米纤维基体薄膜的高分子纳米纤维沿同一方向有序排列;采用静电纺丝方法在该纳米纤维基体薄膜远离该收集器的表面制备一纳米纤维可变形薄膜,从而得到一纳米纤维复合膜,该纳米纤维可变形薄膜由高分子纳米纤维按与该第一排列方式相同或不同的第二排列方式排列而成,该纳米纤维可变形薄膜的高分子纳米纤维包括一环境敏感型材料,使该纳米纤维可变形薄膜在环境温度升高或紫外光照射条件下收缩或膨胀;以及将该纳米纤维复合膜从该收集器上分离并裁剪为所需尺寸,从而制得所述自卷曲薄膜。
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