[发明专利]一种富水基清洗液组合物

摘要

本发明涉及一种富水基清洗液组合物，包括去离子水、有机季胺化合物、有机醇胺、有机剥离溶剂、缓蚀剂、螯合助剂，并同时提供了所述一种富水基清洗液组合物的使用方法，本发明主要用于去除微电子制造过程中光刻胶残留物，操作温度较低，能耗较少，在对晶圆清洗后无需IPA或NMP等中间溶剂浸泡就可以用水直接漂洗，而且由于不会对金属尤其是铝造成腐蚀，安全环保，有效的降低的清洗成本。同时由于采用了多种具有协同效应的缓蚀剂成分，能非常有效的保护金属基底不受腐蚀，另外，本发明的清洗液配方本身就是一个缓冲体系，保证了清洗液在长时间清洗过程中的稳定，具有较强的使用寿命。

主权项

一种富水基清洗液组合物，包括去离子水、有机季胺化合物、有机醇胺、有机剥离溶剂、缓蚀剂、螯合助剂，其特征在于各组合物质量百分比含量为：去离子水20‑70%、有机季胺化合物0.1‑10%、有机醇胺0.1‑20%、有机剥离溶剂5‑70%、缓蚀剂0.01‑15%、螯合助剂0.01‑10%。