[发明专利]利用两步晶界扩散工艺制备高性能烧结钕铁硼磁体的方法有效

专利信息
申请号: 201710497739.1 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN107256795A 公开(公告)日: 2017-10-17
发明(设计)人: 包小倩;卢克超;陈贵贤;高学绪;李纪恒 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057;C23C10/30
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种利用两步晶界扩散工艺制备高性能烧结钕铁硼磁体的方法,属于稀土永磁材料领域。具体工艺步骤是:在洁净的商业烧结钕铁硼磁体表面铺覆低熔点合金扩散源R1‑R2‑TM薄带,其中,R1为La、Ce、Pr、Nd中任选,R2为Dy、Tb中的至少一种,TM为Cu、Al、Ti、Zn、Co、Ni、Fe中至少一种;经过650‑800℃热处理6‑24h,使Tb/Dy沿晶界向磁体内部扩散;850‑950℃热处理1‑4h,富集在晶界相的Tb/Dy向晶粒表层扩散,形成富Tb/Dy的壳层结构;450‑550℃退火1.5‑2.5h,进一步调整边界结构;最终得到高性能烧结钕铁硼磁体。本发明的优点是:充分利用Tb/Dy强化晶粒表面过渡层,提高矫顽力;缩短高温热处理时间,节约能源;避免晶粒异常长大;适用于较厚磁体。
搜索关键词: 利用 两步晶界 扩散 工艺 制备 性能 烧结 钕铁硼 磁体 方法
【主权项】:
一种利用两步晶界扩散工艺制备高性能烧结钕铁硼磁体的方法,其特征在于,具体工艺步骤为:(1)将商业钕铁硼磁体沿着取向方向加工成3‑10mm厚,然后清洁磁体表面,并确保其上下表面光洁、平整;将扩散源合金薄带附着在洁净的钕铁硼磁体上下表面,扩散源为低熔点扩散源R1‑R2‑TM;其中,R1为La、Ce、Pr、Nd中的一种或者两种;R2为Dy、Tb中的一种或者两种;TM为Cu、Al、Ti、Zn、Co、Ni、Fe中任选;(2)将铺设好扩散源的扩散装置置于真空扩散炉内,抽真空至(3‑5)×10‑3Pa,然后开始升温;(3)在650‑800℃低温扩散6‑24h,目的是使重稀土元素Tb/Dy沿晶界扩散并且分布于晶界相;(4)在850‑950℃高温热处理1‑4h,目的是促使存在于晶界相中的Tb/Dy元素在主相晶粒表层形成富Tb/Dy壳层结构;(5)在450‑550℃退火处理1.5‑2.5h得到高矫顽力钕铁硼永磁体。
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