[发明专利]基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法有效
| 申请号： | 201710499744.6 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN107153230B | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 史永胜;刘红忠;尹磊;陈邦道 | 申请（专利权）人： | 常州瑞丰特科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 张利强 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法，包括以下步骤：硅模具的制造：在清洗干净的硅片表面溅射一层金属薄膜A，然后涂胶、曝光、显影、腐蚀金属薄膜A、干法刻蚀硅制备硅模具A；按照同样的步骤，制备模具B；翻模制备柔性磁性聚合物栅线；反射面的制造：将配置好的聚合物混合物涂覆在模具B表面，再施加一个衬底，加热固化聚合物，脱模得到柔性聚合物栅线，在柔性聚合物栅线表面溅射沉积厚度为20~300nm金属薄膜C得到反射面；利用磁场调控反射面的转移，实现闪耀光栅闪耀角的调控。本发明利用磁场精确调控闪耀光栅的闪耀角；本发明具备可精确调控闪耀角、响应快、成本低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 闪耀光栅 金属薄膜 闪耀角 磁场可调控 柔性聚合物 精确调控 聚合物 硅模具 制造 栅线 制备 反射 聚合物混合物 磁场调控 干法刻蚀 硅片表面 加热固化 溅射沉积 柔性磁性 栅线表面 制备模具 反射面 衬底 翻模 溅射 涂覆 涂胶 脱模 显影 磁场 模具 清洗 施加 腐蚀 曝光 响应 调控 配置 | ||
【主权项】：
1.一种基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）硅模具的制造：在清洗干净的硅片表面溅射一层金属薄膜A，然后涂胶、曝光、显影、腐蚀金属薄膜A、干法刻蚀硅制备硅模具A；按照同样的步骤，制备模具B；（2）翻模制备柔性磁性聚合物栅线：将磁性颗粒、聚合物和固化剂混合均匀得到磁性聚合物混合物，将聚合物和固化剂混合均匀得到聚合物混合物，将磁性聚合物混合物涂覆在硅模具A表面，磁性聚合物混合物填充后，在硅模具A正下方放置永磁铁，在磁场的作用下，磁性聚合物混合物中的磁性颗粒会向永磁铁的方向移动，致使磁性颗粒富集在硅模具A槽的底端，去除硅模具A表面剩余的磁性聚合物混合物，然后继续涂覆一层聚合物混合物，再施加一个衬底，加热固化聚合物，脱模得到柔性磁性聚合物栅线；（3）反射面的制造：将配置好的聚合物混合物涂覆在模具B表面，再施加一个衬底，加热固化聚合物，脱模得到柔性聚合物栅线，在柔性聚合物栅线表面溅射沉积厚度为20~300nm金属薄膜C得到反射面；（4）反射面的转移：利用电子微接触印刷技术实现反射面的转移；（5）利用磁场调控闪耀角：柔性磁性聚合物栅线在磁场作用下会发生弯曲，同时附着在其端部的反射面也会随之移动，从而实现闪耀角的调控。
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