[发明专利]光学系统、照射控制方法及所适用的3D打印设备有效
| 申请号： | 201710501033.8 | 申请日： | 2017-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN107053663B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 王金成;刘震;林锦睿;于清晓 | 申请（专利权）人： | 上海联泰三维科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/124 | 分类号： | B29C64/124;B29C64/268;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 31309 上海巅石知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 高磊;王再朝<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 201612 上海市松江区漕河泾开发*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光学系统、照射控制方法及所适用的3D打印设备。其中，所述光学系统包括：投影装置，用于将光辐射以面投射方式照射至预设打印基准面；控制装置，用于：基于经捕捉并检测所述投影装置的光辐射强度和所对应的照射参数，补偿地控制所述投影装置，以使所述投影装置所固化的光固化层的实际特性与对应的预期特性相匹配。本申请能够通过检测投影装置在使用期间的正常光辐射强度衰减来补偿控制相应投影装置的功率、照射时长、灰度等，有效减少了由于设备老化而带来的固化层厚不足、断件等产品质量问题，同时明显延长了投影装置的使用寿命以及提高了在使用寿命内固化各固化层的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 照射 控制 方法 适用 打印 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于3D打印设备的光学系统，其特征在于，包括：/n投影装置，用于将光辐射以面投射方式照射至预设打印基准面；/n控制装置，用于捕捉所述投影装置的光辐射强度和所对应的照射参数，并基于所得到的光辐射强度和照射参数对拟合投影装置当前的光辐射强度和照射参数之间的对应关系，以及基于所述投影装置的光辐射强度与照射参数之间的初始对应关系，以及所捕捉的所述投影装置当前光辐射强度及所对应的照射参数，确定补偿后的受控参数，并根据所确定受控参数控制所述投影装置，以使所述投影装置所固化的光固化层的实际特性与对应的预期特性相匹配。/n
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