[发明专利]一种探测基板的制作方法、探测基板及X射线探测器有效

专利信息
申请号: 201710509175.9 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN107331725B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 孙建明;黄睿;吴慧利;李东升;任庆荣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/115 分类号: H01L31/115;H01L31/18;G01T1/24
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种探测基板的制作方法、探测基板及X射线探测器,涉及光电技术领域。通过在衬底上通过构图工艺依次形成栅电极层、栅绝缘层、有源层,通过构图工艺形成源极和漏极,所述源极和所述漏极均部分覆盖所述有源层,所述源极和所述漏极均为金属层与金属氧化物层的复合层,所述金属层靠近所述有源层,依次形成第一钝化层、遮光层以及PIN光电二极管的I型层和P型层,所述I型层覆盖所述源极与所述漏极间的有源层。金属层与金属氧化物层的复合层作为薄膜晶体管的源极和漏极,金属氧化物层既可以作为金属层的保护层,同时可代替PIN光电二极管的重掺杂N型层,减少制作过程中的工艺流程,提高生产效率,降低生产成本。
搜索关键词: 一种 探测 制作方法 射线 探测器
【主权项】:
1.一种探测基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底上通过构图工艺依次形成栅电极层、栅绝缘层、有源层;通过构图工艺形成源极和漏极,所述源极和所述漏极均部分覆盖所述有源层,所述源极和所述漏极均为金属层与金属氧化物层的复合层,所述金属层靠近所述有源层;依次形成第一钝化层、遮光层以及PIN光电二极管的I型层和P型层,所述I型层在所述有源层上的正投影覆盖所述源极与所述漏极间的有源层;所述第一钝化层部分覆盖所述金属氧化物层,所述遮光层形成在所述第一钝化层上,所述I型层覆盖所述第一钝化层、所述遮光层和所述金属氧化物层,所述P型层形成在所述I型层上;其中,所述通过构图工艺形成源极和漏极的步骤,包括:在溅射设备中通以氩气,以金属靶材作为溅射靶材,沉积金属层;通以氩气和氧气的混合气体,以所述金属靶材作为溅射靶材,在所述金属层上沉积金属氧化物层;所述金属层与所述金属氧化物层的材料分别为锌和氧化锌;通过构图工艺形成源极和漏极。
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