[发明专利]制程系统与制程方法有效
| 申请号： | 201710512379.8 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109213086B | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 周友华;庄国胜 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种制程系统与制程方法。制程系统包含机台、储存装置、第一数据库与处理器。机台用以在第一晶圆上实施半导体制程。储存装置用以储存多个计算机程序码。第一数据库用以从机台收集程序数据。处理器用以执行储存装置中的计算机程序码以进行下列步骤。校正程序数据以产生校正程序数据。筛选校正程序数据以产生过滤程序数据。根据过滤程序数据产生预测参数以供配方管理系统调整机台对第二晶圆实施半导体制程的至少一配方参数。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制程系统，其特征在于，包含：一机台，用以在一第一晶圆上实施一半导体制程；一储存装置，用以储存多个计算机程序码；一第一数据库，用以从该机台收集一程序数据；以及一处理器，用以执行该储存装置中的所述多个计算机程序码，以进行下列步骤：校正该程序数据以产生一校正程序数据；筛选该校正程序数据以产生一过滤程序数据；以及根据该过滤程序数据产生一预测参数以供一配方管理系统调整该机台对一第二晶圆实施半导体制程的至少一配方参数。
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