[发明专利]一种图像传感器结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710515230.5 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN107302009B 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 康晓旭 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种图像传感器结构及其制备方法,通过设计探测结构层和盲元结构层上下堆叠,进一步探测结构层和盲元结构层均采用离子注入得到,从而将二者有效结合起来,不仅缩小了单个像元的空间占比,提高了芯片集成度和器件灵敏度,还使得盲元阵列和像元阵列所处环境相同,从而进一步提高探测灵敏度,减小探测误差。
搜索关键词: 一种 图像传感器 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种图像传感器结构,具有有效像元阵列,其特征在于,在有效像元阵列中的每个有效像元中包括:探测结构层和盲元结构层;所述探测结构层和所述盲元结构层呈上下堆叠设置。
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