[发明专利]一种水相电沉积装置及其应用在钽片上正反面制备铀靶的方法

摘要

本发明提出一种水相电沉积装置及其应用在钽片上正反面制备铀靶的方法，该方法包括以下步骤：1)金属钽片预处理：双面打磨粗化、打磨抛光、除油和清洗；2)安装钽片：可实现在钽片上正反面电沉积铀，铀层尺寸和形状可灵活改变，此装置也可以在其他电沉积实验中应用；3)电沉积工艺：以草酸铵水溶液为电沉积液，控制pH值、温度、电流密度、沉积时间等电沉积参数，在厚度100μm、活性区直径为20～50mm的钽片上正反面分别制备1～10mg均匀、牢固的铀靶。本发明操作简便、条件易于控制，且反应过程中无有害气体，也不产生有害物质，对环境友好。本方法制备得到的铀靶表面平整、致密，与钽片结合牢固，性能好，电沉积收率≥90％。

主权项

1.一种水相电沉积装置，包括导电底座、导电罗圈、筒状液槽和与筒状液槽下端面紧密接触的密封垫圈，所述导电罗圈通过螺纹配合套接在导电底座上部，所述筒状液槽以及密封垫圈限位于导电罗圈内；导电底座上设置有阴极接线柱，作为阳极的铂电极由上方插入筒状液槽内；其特征在于：所述沉积层载体为钽片，沉积层为铀靶；在导电底座上部端面设置有环形的垫片，沉积层载体处于该垫片与所述密封垫圈之间，该垫片内径大于沉积层载体上沉积层的直径；所述铂电极的下端为铂金丝点焊形成的网状圆盘结构，网状圆盘的外径小于沉积层的直径。