[发明专利]光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710517878.6 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN107144898A 公开(公告)日: 2017-09-08
发明(设计)人: 邱阳;陈玮;金扬利;祖成奎;韩滨;徐博 申请(专利权)人: 中国建筑材料科学研究总院
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G03F7/20;H05K9/00
代理公司: 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)11348 代理人: 王伟锋,刘铁生
地址: 100024*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是关于一种光学调控电磁屏蔽玻璃及其制备方法,该方法为在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层;根据泰森多边形法计算无规则网格图形,将无规则网格的图形输入激光器中,在光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀,除去结构支撑玻璃上多余的光刻胶,得到光刻胶掩膜;在光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层;复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层,过渡膜层附着在光刻胶掩膜上;过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种;屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁;去除玻璃上的光刻胶。本发明的电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象,结构简单,耐候性强,同时具有高光学透过率和高屏蔽效能,其透光率大于80%,电磁屏蔽效能为大于等于20dB。
搜索关键词: 光学 调控 电磁 屏蔽 玻璃 及其 制备 方法
【主权项】:
一种光学调控电磁屏蔽玻璃的制备方法,其特征在于:其包括以下步骤:在结构支撑玻璃的表面涂覆光刻胶涂层;根据泰森多边形法计算无规则网格图形,将所述无规则网格的图形输入激光器中,在所述光刻胶涂层上进行激光直写刻蚀,除去结构支撑玻璃上无规则网格图形外围的光刻胶,得到具有无规则网格图形的光刻胶掩膜;在所述光刻胶掩膜上镀制复合金属膜层;所述的复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层,过渡膜层附着在所述光刻胶掩膜上;所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种;所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁;去除镀制完复合金属膜层的玻璃上的光刻胶,得到光学调控电磁屏蔽玻璃。
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