[发明专利]一种四氯化硅氢化工艺和三氯氢硅制备高纯硅工艺在审
申请号: | 201710522320.7 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN107162003A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 于志远;何燕清;佘建峰;刘于航 | 申请(专利权)人: | 于志远 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107;C01B33/03 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)11348 | 代理人: | 王伟锋,刘铁生 |
地址: | 830000 新疆维吾尔*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | 本发明为一种四氯化硅氢化工艺和三氯氢硅制备高纯硅工艺。一种三氯氢硅制备高纯硅工艺,包括(1)将三氯氢硅气体和氢气进入微通道混合加热器加热并混合,得加热后的混合气体;(2)将加热后的混合气体送入微通道反应器,加热并在催化剂的存在下反应,得反应后的混合物;(3)将反应后的混合物降温至后,进行固气分离,得高纯硅和冷却后的混合气体;将冷却后的混合气体中各个组分分离并回收利用。本发明还公布了一种四氯化硅氢化工艺。本发明所述的一种四氯化硅氢化工艺和三氯氢硅制备高纯硅工艺,与传统工艺相比,四氯化硅和三氯氢硅的转化率可以达到50%以上;该工艺与微化工工艺结合,从而可以提高转化率、生产工艺的安全性,降低能耗。 | ||
搜索关键词: | 一种 氯化 氢化 工艺 三氯氢硅 制备 高纯 | ||
【主权项】:
一种四氯化硅氢化工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)将四氯化硅气体和氢气按0.2‑0.5:1的摩尔比进入微通道混合加热器加热并混合,加热温度为100—700℃,得加热后的混合气体;将加热后的混合气体送入微通道反应器,加热并在催化剂的催化下反应,加热温度为700—1300℃,得反应后的混合气体;将反应后的混合气体降温至250‑350℃,得冷却后的混合气体;所述催化剂为氧化铝;或将四氯化硅气体和氢气按0.1‑0.3:1的摩尔比进入微通道混合加热器加热并混合,加热温度为100—800℃,得加热后的混合气体;将加热后的混合气体送入微通道反应器,加热并在催化剂的催化下反应,加热温度为700—1400℃,得到反应后的混合物;将反应后的混合物降温至250‑350℃后,通过固气分离,得高纯硅和冷却后的混合气体;所述催化剂为氧化铝;(2)冷却后的混合气体进入回收分离装置,将各个组分分离,得到氢气、氯化氢和氯硅烷气体;氢气返回到步骤(1),氯硅烷送到精馏分离提纯后,得到四氯化硅和三氯氢硅,四氯化硅返回到步骤(1)。
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